较高真空-诺思真空(在线咨询)-锦州真空

真空应用设备种类繁多，但无论何种真空应用设备都有一套排除被抽容器内气体的抽气系统，以便在真空容器内获得所需要的真空条件。举例来说：一个真空处理用的容器，锦州真空，用管道和阀门将它与真空泵连接起来，当真空泵对容器进行抽空时，容器上要有真空测量装置，这就构成了一个较简单的真空抽气系统。

简单的真空系统只能在被抽容器内获得低真空范围内的真空度，当需要获得高真空范围内的真空度时，通常在真空系统中串联一个高真空泵。当串联一个高真空泵之后，通常要在高真空泵的入口和出口分别加上阀门，以便高真空泵能单独保持真空。

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，较高真空，从而增大电子撞击产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。在近几十年的发展中，大家逐渐采用*磁铁，很少用线圈磁铁。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，**高真空，非平衡多用于磨损装饰膜。

真空镀膜设备（真空镀膜机）：是对产品进行表面处理，它的工艺种类也比较的多，有磁控溅射，高真空蒸发，多弧离子等适应不同类型客户的要求。镀膜设备：所有镀膜用的机械设备统称镀膜设备或者镀膜机，有化学镀膜和物理镀膜之分，水电镀属于化学镀，而真空镀膜则是物理镀膜，化学镀膜对于环境的污染是很严重的，真空镀膜是电镀行业中较环保的。