用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,红外材料制备系统设备,和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难大规模采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。
工业环境中的粉尘是以粉状体、烟雾体、粉尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的集合或分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒的集合,而颗粒是指能够一个一个计数的微小物质。
烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。物质无论是固体还是液体,红外材料制备系统制造,凡是呈颗粒状态均可统称为尘粒。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准,从而定制出洁净室的等级。不仅适合于有洁净要求的工业部门,红外材料制备系统,也适合于真空对洁净环境的要求。
真空镀膜设备对环境的要求:一般包括真空设备对所处实验室(或车间)的温度、空气中的微粒等周围环境的要求,红外材料制备系统型号,和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。这两个方面是有密切联系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用;而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗,又直接影响设备的性能。
如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘,在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气,要达到预期的真空度很难的。