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薄膜均匀性概念：厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空炉，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

沈阳诺思真空技术有限公司（原沈阳天成真空技术有限责任公司）成立于2012年，是以**高真空技术为基础、从事各种真空应用设备研发、生产和销售为一体的技术型企业。

工艺气体，武威真空，一般均由气瓶供应，经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀，然后通入真空室。这种气体输入系统的优点是，管路简捷、明快，维修或更换气瓶容易。各涂层机之间互不影响。也有多台涂层机共用一组气瓶的情况，真空薄膜，这种情况在一些规模较大的涂层车间可能**会看到。它的好处是，减少气瓶占用量，统一规划、统一布局。缺点是，由于接头增多，使漏气机会增加。而且，各涂层机之间会互相干扰，一台涂层机的管路漏气，有可能会影响到其他涂层机的产品质量。此外，更换气瓶时，必须保证所**台都处于非用气状态。

真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别：蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，**高真空电子束蒸发，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。溅射镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且较终沉积在基片表面，经历成膜过程，较终形成薄膜。真空镀膜机设备溅射镀膜又分为很多种，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。