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?真空镀膜设备对环境的要求

真空镀膜设备对环境的要求：一般包括真空设备对所处实验室（或车间）的温度、空气中的微粒等周围环境的要求，微光夜视真空系统，和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。这两个方面是有密切联系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用；而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗，又直接影响设备的性能。

如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘，在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气，要达到预期的真空度很难的。

随着科学技术的发展，真空镀膜技术成为了各行各业提高产品质量的手段，真空镀膜所需费用较低经济效益显著让越来越多的企业跃跃欲试，我国生产的真空镀膜机已经达到了相当水平，可以镀制的真空镀膜材料也越来越多，较高真空，但和国外的设备对比也存在着一点差距，对于真空技术的研发有待提高。

真空镀膜技术的膜材选材广泛，可以控制膜的厚度并镀制不同功能和性能的薄膜，就能使材料具备许多新的化学和物理性能。

薄膜具有许多特有的性质，因此引起了科学工作者的较大关注．近年来，薄膜的研究和应用得到了迅速的发展，泉州真空，并且己形成一个专门的物理学分支一—薄膜物理学。

真空镀膜是一种在许多领域(如电子工业、光学仪器制造、薄膜研究等)中有着广泛应用的实用技术．真空镀脂较之传统的电镀、化学镀具有许多优越性，如纯度高、均匀性好、膜厚可以严格控制、材料种类多样．既可镀金属膜、又可以镀介质膜，而且制备方法简单。