磁控溅射型号|磁控溅射|诺思 好品质

1）溅射镀膜： 通过高能粒子轰击固体表面，磁控溅射制造，使表面例子获得能量逸出后，沉积在基片上。相比蒸发镀膜，它不膜材料的熔点限制。

2）蒸发镀膜：加热蒸发一种物质后，将其沉积在固体表面。相比其他技术有较高的沉积速率，是现代常用的镀膜技术，适合镀单质或不易热分解的化合物膜。

3）离子镀：用电子将蒸发物质的分子碰撞电离，使其以离子形式沉积在固体表面，它结合了真空蒸发与阴极溅射技术，有良好的绕射性，可以适应形状复杂的工件。

根据权利要求1所述的管内镀膜设备及镀膜技术，其特征在于：所述的磁体为长跑道形结构，磁控溅射型号，磁体长度与被镀管长度相当，磁控溅射厂家，除两端外，产生基本与轴向垂直的磁场，镀膜过程中，磁体整体绕被镀管旋转，旋转轴与被镀管中心轴线相同。如果被镀管为绝缘管，磁控溅射，则被镀管内与轴向平行设置细杆状或细管状金属阳极1根或多根。

 根据权利要求的管内镀膜设备及镀膜技术，其特征在于：所述的细管状金属阳极可同时作为充气管道，不再另外设置充气管道;在细管状阳极侧壁上开进气孔。