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了解真空镀膜机

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，真空储存，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，激光器真空系统，磁控溅射，非标真空系统，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，开封真空，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且较终沉积在基片表面，经历成膜过程，较终形成薄膜。

镀膜过程大致可分为填充、抽真空、镀制、冷却等主要工序，以及与其相关的前后工序，如清洗、开关机、检测等，使用真空镀膜机可以提高镀膜生产效率，减少劳动成本、人工成本，非常适用于大规模生产，并满足环保的要求，让镀膜变得简单。真空镀膜机有多种分类，按镀膜工艺技术可以分为蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、多弧离子镀膜等；按真空度可以分为低真空、中真空、高真空以及极限真空；按温度可分为低温、高温镀膜；按品种可以分为**真空镀膜机和通用真空镀膜机；按操作可以分为手动、半自动、全自动真空镀膜机等。